光刻机被称为“史上最精密机器”，2024年全球半导体设备销售额1090亿美元，其中光刻机占比24%，为第一大品类。光刻波长从365nm汞灯、248nm KrF、193nm ArF发展到13.5nm EUV，ASML的NXE:3800E率先实现7nm以下工艺，单台售价已超1.9亿欧元。光刻机关键指标包括分辨率、套刻精度、产率与焦深，整机由曝光光源、投影物镜、双工件台等十余万零部件协同构成，成像质量直接决定芯片微细化水平。
全球市场呈现ASML、Nikon、Canon寡头垄断：ASML占61.2%，EUV为全球唯一供应商；Nikon、Canon主攻中低端KrF、i-line。2024年三大巨头出货683台，销售额264亿美元；中国连续成为ASML最大客户，2024年贡献90亿欧元收入、占比41%，但出口管制导致2025Q1回落至27%。美日荷联合管制升级，国内90nm整机已量产，28nm浸没式正攻关，国产化率仅2.5%，2023年进口225台、金额87.54亿美元，国产替代空间巨大。
国家“02专项”与大基金三期（3440亿元）重点扶持光刻机产业链：上海微电子负责整机集成，长春光机所负责物镜，北京科益虹源转化准分子激光光源，华卓精科突破双工件台；茂莱光学、波长光电、福晶科技、旭光电子等企业在超精密光学、激光晶体、陶瓷材料环节已实现关键技术突破并获下游验证，有望率先受益国产替代加速。
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